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      一、核心區別:等離子體產生方式不同
      1. 微波秋葵视频IOS在线免费观看機:高頻電磁波激發等離子體
      能量來源:通過微波發生器(頻率通常為 2.45GHz)產生高頻電磁波,電磁波能量直接耦合到氣體分子中,使氣體電離形成等離子體(無需電極直接接觸)。
      等離子體特性:
      電子密度高(10¹⁸~10²⁰/m³),能量分布更均勻,屬於 “無電極放電”,避免電極材料汙染(如金屬離子濺射)。
      等離子體呈 “擴散態”,可覆蓋更大空間,適合處理複雜結構或大麵積材料。
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      2. 真空秋葵视频IOS在线免费观看機:電場(射頻 / 中頻)激發等離子體
      能量來源:通過射頻電源(13.56MHz 為主)或中頻電源(40~100kHz)在電極間產生電場,電場加速電子碰撞氣體分子,使氣體電離形成等離子體(依賴電極產生電場)。
      等離子體特性:
      電子密度中等(10¹⁶~10¹⁸/m³),離子能量可控(通過調整功率),物理轟擊與化學反應平衡。
      等離子體受電極布局影響,均勻性依賴腔體設計(如平行電極、圓柱電極)。
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      二、設備結構差異:真空環境與能量係統不同
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      真空係統 需真空腔體(壓力通常 1~100Pa),但部分型號可兼容常壓(如大氣微波等離子)。   必須依賴真空腔體(壓力 10~500Pa),通過真空泵維持低氣壓。
      能量係統 微波發生器(2.45GHz),無電極汙染風險。   射頻 / 中頻電源 + 金屬電極(如鋁、不鏽鋼),長期使用可能有電極磨損。
      氣體控製 支持惰性氣體(Ar、He)、反應性氣體(O₂、N₂),微波能量對氣體適應性強。   氣體兼容性更廣(含腐蝕性氣體如 CF₄),可通過混合氣體比例精準調控反應。
      腔體設計 腔體多為圓柱或矩形,內置微波耦合裝置(如石英管、天線),避免金屬與等離子體直接反應。   腔體與電極一體化設計(如電極作為腔體壁),需考慮電極耐腐蝕性(如鍍陶瓷)。
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        ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級孔隙中,徹底清除難以觸及的汙染物。

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