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      該係統主要由等離子體發生器、反應室、真空係統、控製係統等部分組成。
      等離子體發生器通過高頻電場或直流電弧等方式使氣體產生等離子體,將氣體轉化為帶電的離子和自由電子,形成高能量的等離子體束。
      反應室中的材料表麵被暴露在等離子體束中,表麵原子受到等離子體束的轟擊、激發和離化,從而產生各種物理、化學反應,如表麵清洗、表麵改性、表麵合成等。
       真空係統用於提供反應室所需的真空環境,避免氣體幹擾和雜質汙染。
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      控製係統則負責對等離子體發生器、真空係統等進行監控和控製,確保係統的穩定運行。
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      高效性:等離子體束具有高能量和高反應性,能夠快速和徹底地清洗、改性和合成材料表麵,處理效率高。
      精度性:可以精確地控製等離子體束的能量和流量,實現對材料表麵的精確加工和控製。
      多樣性:可以處理各種材料,包括金屬、陶瓷、塑料等,應用範圍廣泛。
      環保性:使用氣體作為原料,無需使用化學藥劑,對環境友好。
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